另外，存储龙头三星、海力士、美光也随着它们存储器制程的进步而加码扩大EUV光刻机的资本开支。 同时，EUV相较DUV简化了光刻流程的复杂性，使客户能够提高成本效益。 我们认为，掌握EUV技术，就是掌握未来半导体先进制程的发展方向和制高点。 美国作为全球半导体龙头，深知EUV技术的重要性，所以必会牢牢控制EUV技术。
1）1997年EUV LLC联盟成立，ASML成功入局。 EUV技术起源于英特尔和美国政府牵头成立EUV LLC联盟。 上海微電子 duv 该联盟汇聚了美国顶尖的研究资源和芯片巨头，包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室三大国家实验室，联合IBM、AMD、摩托罗拉等科技巨头，集中数百位顶尖科学家，共同研究EUV光刻技术。 但若美國計劃收緊限制，三星、SK海力士追加投資的計畫將更不明朗，中國政府已正在要求三星電子儘早進行設備投資。 上海微電子 duv2023 SK海力士子公司「SK海力士系統IC」最近與無錫工業發展集團合作，在中國啟動代工業務，但其工藝開發可能亦會受到美國限制。
上海微電子 duv: 上海56岁母亲，为何含泪检举自己的亲生儿子？
近日，美媒密切跟进美国与日本、荷兰就对华半导体设备限制举行会谈的情况，甚至放出风声说两国将加入美国的限制行列。 上海微電子 duv2023 浸没液体相比于传统气体介质具有较高粘度，粘性力的增强，使得压力驱动下浸没液体对投影物镜的作用力将变得越来越不可忽视。 作用在物镜表面的应力如果过大将使物镜产生变形和位移，并引起双折射与光路失真，如缺乏有效控制，将造成曝光成像的缺陷。 目前国内在NA1.35浸润式物镜系统的研发上进展如何尚不清楚。 因此ASML的善意，對大陸要建立完整半導體產業鏈，恐是短多長空。 光刻机突破的话，还是要看中科院以及一些其他科研机构，其次看这些科研企业，但是上海微电子本身是没啥指望了。
不过，从美国新规来看，主要限制的是16/14nm及以下先进制程芯片的制造，因此可能会限制主要应用于先进制程的浸没式光刻机的部分型号的对华出口，部分主要应用于成熟制程的浸没式光刻机型号的许可申请可能会开放。 据上海微电子官网介绍，其主要生产 SSX600 和 SSX500 两个系列的光刻机。 2021年的3月初，中芯国际官方通告称公司与ASML阿斯麦公司签订购买协议：2021年2月1日，中芯国际与阿斯麦上海签订了经修订和重述的阿斯麦批量采购协议，金额为12亿美元。 而此次中芯国际并没有透露签订的协议具体内容，不过12亿美元的总价值不低，而目前EUV光刻机也就是1.2亿美元，或许这次购买的数量将大于10台。
上海微電子 duv: 交付新一代产品后，上海微电子被列“未经核实清单”
以被称为“集成电路最关键领域”的光刻机为例，早在20年前，即不断传出中国自主研发光刻机的各类消息，但迄今为止，仍未能生产出拥有先进制程的光刻机。 如今，上海微电子装备研制生产的光刻机，是中国本土市场制程最先进的一款机器，该光刻机能够量产的最高水平为90nm。 芯片产业的利好消息蜂拥而至，近两年来，北京、浙江、河南、广东、上海、深圳等地，均已出台促进集成电路发展的实施意见及规划。
然而，随着先进制程向5nm及以下先进制程进化，EUV成为了刚需。 彭博社27日报道称，有知情人士表示，美国、荷兰和日本官员将在周五结束会谈，荷兰将扩大阿斯麦公司对华半导体设备销售的限制，日本也将对尼康公司设置类似的限制。 上海微電子 duv 本月初，华为旗下的哈勃投资入股了国内高端准分子激光技术厂商科益虹源，似乎也正是为了加码布局光刻机领域的研发。 上海微電子 duv2023 此前的资料显示，该光刻机的光源激光系统、没式双工作台、液系统、透镜及曝光系统都已实现了国产化（由不国内相关供应商提供），上海微电子则负责控制系统和总装。
上海微電子 duv: 美国防部前顾问：别指望韩国总统尹锡悦对抗中国了
虽然不乏滥竽充数的企业，但也有不少真正有实力的科技巨头，比如中芯国际、华为、上海微电子等等。 国产DUV光刻机完成认证据报道，国产光刻机巨头上海微电所研发的首台国产28nm光刻机已经完成了认证，并且今年年底将实现量产。 28nm光刻机是深紫光刻机，也就是DUV光刻机，不仅能实现28nm、14nm工艺芯片的量产，同时还可以通过多次曝光的方式，实现非EUV 7nm工艺芯片的生产，这也意味着，从今年年底或明年年初，我国将进入中高端芯片量产时代。 在芯片市场，14nm芯片是一个成熟工艺和先进工艺的分界点，现阶段，28nm、55nm工艺芯片在市场需求中所占的比例非常高，而随着消费者的要求越来越高，14nm工艺芯片的市场需求正在快速增长。 上海微電子 duv 紫光在2013年7月至2015年6月，完成展讯通信、锐迪科微电子两起并购，并收购了惠普旗下新华三集团的51%股权；同时，长电科技、国有企业建广资产管理公司也陆续发起了芯片相关收并购。 如今，中芯国际仍然是中国市场上规模最大、制程最先进的芯片制造厂商，不过，如果以中芯近期传出将于2019年下半年量产14nm工艺制程的消息看，这仍比台积电正在试产5nm制程的水平落后2代。
频率源相位噪声的测试是时间频率专业计量测试人员经常进行的工作，有大量文章介绍，但是频率控制器件的相位噪声即附加相位噪声的测试却很少有文章提及。 上海微電子 duv 上海微電子 duv2023 本文简单介绍了相位噪声的定义，详细介绍了附加相位噪声的测试过程，给出了实际的测试结果，指出了附加相位噪声测试过程中的一些注意事项，希望对附加相位噪声测试人员有一定的借鉴意义。 在这场以年为单位的追赶中，我们不必以一时得失论成败，更不必因暂时的成败论英雄。
上海微電子 duv: 科技要闻
2020年6月，方正证券在研报中提到，在02专项光刻机项目二期中，设定的时间为2020年12月验收193nmArF浸没式DUV（深紫外）光刻机，其制程工艺为28nm，对标产品为ASML现阶段最强DUV光刻机：TWINSCAN NXT：2000i。 无独有偶，2021年6月，英国科技媒体“VERDICT”在一篇报道中称，上海微电子计划在2021年底推出一台国产28nm DUV光刻机。 目前，台积电、三星使用的是阿斯麦0.33 上海微電子 duv2023 NA EUV光刻机，这种光刻机可用于生产7nm-5nm工艺的芯片。 而阿斯麦下一代高数值孔径（0.55 NA）EUV光刻机预计将在2023年上市，具有更高的分辨率（由13nm升级到8nm），可用于3nm工艺，每台售价约20亿人民币，比0.33 NA光刻机售价高出一倍。 再下一代的高数值孔径EUV光刻机也在研发中，预计2025年开始大规模应用于2nm甚至以下先进制程的生产。
- 其中ASML 在中高端光刻机市场更是一家独大，且是全球唯一家拥有可以被用于7nm以下工艺制程的EUV光刻机的供应商。
- 为了追求芯片更快的处理速度和更优的能效，需要缩短晶体管内部导电沟道的长度，而光刻设备的分辨率决定了IC的最小线宽。
- 现阶段，受《瓦森纳协定》限制，荷兰政府禁止ASML对华出口极紫外光刻机（使用13．4nm极紫外光源）。
- 许多人低估了物联网的复杂性，以及使系统可视化来实现可扩展性的重要。
这个时候如果ASML连DUV光刻机也不卖给中国，那市场机会真的就要错过了。 根据美国《出口管制条例》规定，一旦特定实体被列入UVL之中，向该实体出口、再出口或者境内转移（in-country transfer）受到EAR管辖的物项、软件或者技术（受控美国物项）时需要额外的尽职调查或许可证要求。 对于这些列入UVL的实体而言，额外的许可证手续和更高的合规要求，会使得商业合作伙伴（包括美国人、再出口美国产品的非美国人，以及转卖美国产品的中国企业）倾向于不与之进行交易，暂停或者取消原有的交易计划。
上海微電子 duv: 国产“28nm光刻机”又跳票？到底卡在了哪里？
在浸液系统方面，主要由浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室和浙江启尔机电负责，2018年底，浙江启尔机电总投资5亿元的“光刻机浸液系统产品研制与中试基地”在杭州青山湖封顶，该项目主要研究光刻机浸液系统，目前已经完成建设。 上海微电子负责光刻机设计和总体集成，北京科益虹源提供光源系统，北京国望光学提供物镜系统，国科精密提供曝光光学系统，华卓精科提供双工作台（上海微电子也在自研），启尔机电提供浸没系统。 即便是国产光刻机龙头上海微电子，其自2002年成立至今也有了近20年的光刻机研发历史，但是其已量产的90nm光刻机也仅仅是ASML十多年前的水平。
- 除了东京电子、尼康之外，爱德万、迪恩士、日立高科、迪斯科（DISCO）等日本知名的半导体设备大厂预计也将受到影响。
- 消息一出，迅速在社交媒体上引发热议，微博上甚至出现“上海微电子交付中国首台光刻机”的标签。
- 2021年的3月初，中芯国际官方通告称公司与ASML阿斯麦公司签订购买协议：2021年2月1日，中芯国际与阿斯麦上海签订了经修订和重述的阿斯麦批量采购协议，金额为12亿美元。
- 只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。
- 光刻机需要体积小、功率高而稳定的光源，ASML 的顶尖设备， 使用波长短的极紫外光，光学系统极复杂 目前，世界上几个比较大型的光刻机生产厂商，除了荷兰阿斯麦 ASML，还有日本的尼康和佳能，以及中国的上海微电子，做的其实都是光刻机的组装工作。
除「芯片法案」鼓勵企業在美設廠外，並限制獲得美國政府補助的企業在10年內不得於中國建造新廠或是擴充低於28奈米的先進製程。 然而，今年7月上旬，有知情人士向媒體透露，美國正在施壓荷蘭，要求 ASML停止向中國出售DUV。 這意味著美國政府正把對中國光刻機的禁售範圍從先進制程的極紫外線光刻機（EUV）擴大到普遍使用的DUV。 他表示，中芯國際工程師自己洩露了這些自產的機器容易被投訴的情況。 他還強調，中國使用外國設備製造芯片的技術落後很多年，其國產設備更是落後外國幾十年。 上海微電子 duv2023 二、张江高科（600895）：张江高科--上海张江浩成创业投资有限公司（100%）--上海微电子装备（集团）股份有限公司（10.78%）。
上海微電子 duv: 汽车
另外，长江存储今年也从ASML买入一台浸润式光刻机，售价高达7200万美元。 通过多次施压，荷兰政府不再续签 ASML 对中国出口光刻机的许可证。 关键词：ASML EUV 光刻机据路透社消息，美国搞起了小动作，阻止荷兰向中国出售芯片制造技术。 随后 EUV 光刻机的交付时间，便顺延到了 2020 年年中交付。 一台光刻机包含数万的零配件和多项顶尖技术，这决定了光刻机是一个需要全球合作才能成功的工业产品。
更何况，ASML也曾明确表示，国内厂商在光刻机技术方面进步很快，不出10年，或者ASML就会全面退出国内市场了。 而在该领域内，ASML已经耕耘多年，结果在此次招标过程中，其依旧没有获得订单，4台订单均被上海微电子获得，这必然会促使其获得更多其它厂商的订单。 既可以赚钱，还可以在中国国产光刻机起步之际来个当头打压。 你想，中国完全独立自主生产的光刻机，起步阶段必然存在稳定性差、成本高，以及客户信任尚未建立的现实困难。 此时ASML以成熟稳定的技术和产品，一定可以拿到中国客户的大量订单，对国产光刻机造成巨大市场压力。
上海微電子 duv: 強化掌控 中國大陸政府取得阿里巴巴2子公司特殊股
由于sinθ与镜头有关，提升需要很大的成本，目前sinθ已经提升到0.93，已很难再提升，而且其不可能大于1。 而ASML先进的EUV光刻机则拥有超过10万个零件，涉及到上游5000多家供应商。 这些零部件极为复杂，对误差和稳定性的要求极高，并且这些零件几乎都是定制的，90%零件都采用的是世界上最先进技术，85%的零部件是和供应链共同研发，甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨，尺寸调整次数更可能高达百万次以上。 虽然与台积电和三星目前所采用的3nm相比较相对落后，但28nm制程技术仍被广泛使用。 这足以说明上海微电子在特色技术和新兴产品方面还是有很大竞争力的，击败ASML获得4台订单就是最好的证据。
数据显示，上海微电子在2018年的光刻机出货量大概在50台到60台之间，另外，该公司在中国大陆所占据的市场份额也已经超过80%。 上海微电子是在国家科技部和上海市政府共同推动下，由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的高科技企业。 主要从事半导体装备、泛半导体装备以及高端智能装备的设计制造销售，其中光刻设备是公司的主营业务。 而这一切，正是因为缺少芯片制造过程中的核心设备，光刻机。
上海微電子 duv: 中国集成电路产业发展长期落后原因分析
至于生产华为麒麟处理器所急需的EUV光刻机，我们的技术差距还太大，短期内是很难搞定。 尽管华为麒麟处理器存货越用越少，我们也都在期待华为手机王者归来，但这个难题短期内能够完全靠国产解决的可能性不大，最终可能还是需要通过全球供应链去解决。 在ASML的净销售额中，63亿欧元来自42台EUV系统订单，当然这其中中国大陆市场，肯定是1台也没有的。 由于众所周知的原因，中芯国际早在2018年花费1.2亿美元订购的EUV光刻机，一直未能交付，显而易见短期内交付EUV光刻机的可能性也不大。 在這樣的背景下，中國大陸有媒體近日宣稱，上海微電子集團與許多公司達成了合作，已成功研製出了28奈米光刻機，並聲稱「這標誌著我國的光刻機研究也已經進入了先進工藝的階段」云云。 甚至有消息稱，在不久之後，上海微電子集團會在14納米光刻機的研發上完成突破。
