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相較於第一鈍化層108,介電層106具有較低的似型性,即增加的厚度變化。 張慶全 在一些實施例中,導電墊104之側壁上方的介電層106之厚度與導電墊104之上表面上方的介電層106之厚度差異約5%至約10%。 該研究基金為紀念已故張佩瑤教授而設立。

當前驅物的流速受到控制時,例如硬度、折射率或消光係數之性質可獲得令人滿意的控制。 在操作108中,藉由光微影操作以及蝕刻操作圖案化金屬層230,藉以形成複數個金屬墊232。 在一些實施例中,金屬墊232包含形成於介電層214之上之第一開口221內之第一金屬墊234,及形成於第一鈍化層220上之第二金屬墊236。 張慶全 在一些實施例中,第一金屬墊234電性接觸在下方的上金屬連接器215,以在下方的積體電路與其他外部元件(例如印刷電路板)之間提供電性連接。 在一些實施例中,每一第二金屬墊236之高度可在從約1400nm到約2800nm之範圍內。 具有此高度之第 二金屬墊236可以改善焊球與鈍化互連層之間的電性連接。

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上述方法包含使用第一沉積製程,沉積介電層於導電墊上方。 上述方法更包括使用高密度電漿化學氣相沉積,沉積第一鈍化層直接位於介電層之上方。 上述第一沉積製程與高密度電漿化學氣相沉積不同。 張慶全 上述第一鈍化層之材料為與上述介電層相同之材料。 張慶全醫生2023 上述方法更包括沉積第二鈍化層於所述第一鈍化層上方。 所述第二鈍化層之材料與第一鈍化層之材料不同。

在一些實施例中,鈍化層為第二鈍化層110。 在一些實施例中,導電層包括鋁、銅、鎢、金或其他適合的導電材料。 在一些實施例中,相較於介電層106,第二鈍化層110具有較高的似型性。 在一些實施例中,位於導電墊104之側壁上的第二鈍化層110之厚度與位於導電墊104之上表面上的第二鈍化層110之厚度的差異為少於約3%。

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在一些實施例中,第二鈍化層包括與介電層相同的材料。 在一些實施例中,第二鈍化層包括與介電層不同的材料。 介電層106做為電性阻障,避免或減少帶電粒子的電荷到達導電墊104。 藉由減少或避免電荷到達導電墊104,天線效應破壞半導體裝置100之主動裝置的衝擊可減少或消除。

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本揭露的另個態樣是有關於一種半導體裝置的製造方法。 在操作116中,複合鈍化層更包含沉積於第四鈍化層244之上之第五鈍化層246。 在一些實施例中,沉積第五鈍化層246可藉由化學氣相沉積、旋轉塗佈、或其他合適技術來進行。 舉例來說,第五鈍化層246包含氮化矽、氮氧化矽或其組合。 在一些實施例中,第五鈍化層246之厚度在從約500nm到約1000nm的範圍內。 張慶全醫生 在一些實施例中,位於導電墊104之側壁上方的第一鈍化層108之厚度與位於導電墊104之上表面上方的第一鈍化層108之厚度的差異小於約3%。

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張慶全 隨著技術節點的減少,導電墊之間的間距也縮減。 因此,具有較高度似型性的鈍化層,即均一厚度的鈍化層,被用來保護導電墊。 張慶全醫生2023 張慶全醫生2023 在一些例子中,使用高密度電漿化學氣相沉積製程來形成鈍化層。 在一些實施例中,鈍化層為第一鈍化層108(圖1)。

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  • 除非特別另外說明以外,每一鈍化層的厚度可對應於在第二金屬墊236之上之鈍化層的厚度。
  • 然後,形成第二氧化物系鈍化層於第一氧化物系鈍化層之上。
  • 由於及時手術干預,使患兒轉危為安。
  • 劉偉醫生 (仁安醫院分科診所 (荃灣))4.
  • 第二鈍化層具有與操作208中所沉積的鈍化層不同的材料。

在一些實施例中,進行第一氧化物系鈍化層之沉積,使得第一氧化物系鈍化層之厚度大於第三氧化物系鈍化層之厚度。 張慶全醫生2023 張慶全醫生 在一些實施例中,藉由使用矽烷與一氧化二氮作為前驅物而進行第二氧化物系鈍化層及第三氧化物系鈍化層之沉積。 在一些實施例中,使用矽烷與氧氣作為前驅物而進行第一氧化物系鈍化層之沉積。

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接著,形成金屬墊於第一 開口內。 之後,形成第一氧化物系鈍化層於金屬墊之上。 然後,形成第二氧化物系鈍化層於第一氧化物系鈍化層之上。 張慶全 第二氧化物系鈍化層具有硬度小於第一氧化物系鈍化層之硬度。

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