正如前面所提到的，光刻机涉及到非常多的零部件，其中上海微电子主要是负责系统集成工作，更多的核心零部件则都是由其他的国产供应商来供应。 只要其中一个核心部件没有搞定，那么“28nm光刻机”就难以成功。 但是，由于《瓦森纳协定》的限制，上海微电子很难从国外进口用于生产高端光刻机的部件，因此在核心器件上只能依靠国产供应商。 上海微电子本身起步就晚，而且不论是在人员数量、营收规模，还是研发投入上，与ASML都有着巨大的差距。 要想缩短与ASML的差距，这并不仅仅只是提升自身的系统集成能力就能够实现的，还需要配套的上万个零部件的制作水平跟上，这也就需要成百上千家的零部件供应商的共同努力。
- 其中，計量設備和光源來自美國、鏡頭和精密儀器來自德國、軸承來自瑞典等等。
- 大陸的中國電子資訊產業發展研究院電子資訊研究所所長溫曉君在接受《環球網》訪問時表示，大陸半導體行業研判，28奈米將是100%國產晶片的新起點，儘管面臨著技術方面的難題，但已看到希望。
- 香港討論區有權刪除任何留言及拒絕任何人士上載留言 (刪除前或不會作事先警告及通知 )， 同時亦有不刪除留言的權利，如有任何爭議，管理員擁有最終的詮釋權 。
- 高階半導體晶片在國家經濟與社會發展領域的重要商品，現在更成為美國對中國技術封鎖的關鍵項目。
- 自從2019年美國製裁華為以來，華為的手機零件自給率已經提高到42%，美國零部件的比例從11%下降到1。
- AI強創新智慧聊天機器人ChatGPT所掀起的一波新經濟社會革命，正疾速衝向高科技經濟體臺灣而來，是機遇或是挑戰，也給予今日臺灣社會，...
- Peter Wennink去年4月就曾公開表達焦慮，指出口管制將加快中國自主研發，「15年時間裏他們將做出所有的東西」，又指中國完全自主掌控供應鏈之後，歐洲供應商將徹底失去市場。
所以如果沒有曝光機，晶片是無法正常製造的，目前也沒有替代品。 上海微電子光刻機 究其原因，還是因為中國沒有自己的EUV光刻機，這個號稱現代工業領域的掌上明珠，是製造7nm及以下晶片必須用到的設備，沒有它就沒有先進位程晶片，故而台積電無法繼續為華為代工後，麒麟晶片也就用一塊少一塊了。 美國商務部將這些公司列入實體名單（Entity List），意味著任何試圖向它們提供美國技術的公司和個人都需要獲得美國政府的許可，且這種許可很難獲得。
上海微電子光刻機: 光刻机产品
別說日本與荷蘭，就算是美國，想要一己之力自主突破這項技術，可以說是比登天還難，畢竟美國已經登月了。 CINNO Research半導體事業部總經理Elvis Hsu表示，光刻機是半導體製造設備價格佔比最高的部分約25%至30%，其研發難點在於曝光光源、對準系統和透光鏡頭等技術的整合，以及龐大資金投入。 目前，中國技術領先的光刻機研製廠家是上海微電子，可以穩定生產90/65納米製造工藝的光刻機。 阿斯麥生產的光刻機對於生產最先進芯片至關重要，該公司在該領域的技術優勢是目前世界上任何一家公司都無法比擬的，也是全球唯一一家能夠供應7奈米及以下晶片所需的EUV（極紫外）光刻機的廠商。 美國最新制裁限制SMEE獲得先進技術和產品，使得該公司更難以提升光刻機生產水平。
當時的美國政府將 EUV 技術視為推動本國半導體產業發展的核心技術，並不太希望外國企業參與其中，更何況是八九十年代在半導體領域壓了美國風頭的日本。 但EUV曝光機又幾乎逼近物理學、材料學以及精密製造的極限。 光源功率要求極高，透鏡和反射鏡系統也極致精密，還需要真空環境，其配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高。
上海微電子光刻機: 國產光刻機的困境
因為上海微電是中共光刻機產業的龍頭企業，美方此舉將重創中共先進光刻機產業，乃至晶片自給自足野心。 中國是全球最大的半導體芯片消費市場，ASML如果繼續無法自由出貨，那麼一旦我們實現了高精度光刻設備的國產化，它就將被徹底失去中高端光刻領域獨一無二的市場地位。 雖然上海微電子的這台國產光刻機只是用於封測，而並非用於芯片製造環節，但這並不能抹掉其帶來的重大轉折意義。 要知道，該設備有著高精尖的工藝，達到了國際頂尖水準，徹底彌補了國內封裝領域的短板。 由於ASML使用了美國技術，無法向國內市場自由出貨，因此，在我們的芯片國產化道路上，光刻設備壟斷便成了最大攔路虎。
根據富士康官方微信消息，11月26日上午，富士康半導體高端封測項目投產儀式在青島西海岸新區舉行。 隨着首條晶圓級封裝測試生產線啓動，項目進入生產運營階段，預計達產後月封測晶圓芯片約3萬片。 此前的资料显示，该光刻机的光源激光系统、没式双工作台、液系统、透镜及曝光系统都已实现了国产化（由不国内相关供应商提供），上海微电子则负责控制系统和总装。 虽然，国产光刻机厂商——上海微电子装备股份有限公司（以下简称“上海微电子”，SMEE）此前已经量产了自主研发的光刻机，但是其在技术上与国外还存在较大差距。 目前产线中光刻机主要依赖于进口，以国内长江存储截至2020年2月的半导体设备采购招标结果为例，其光刻机全部来自于ASML 和佳能。
上海微電子光刻機: 半導體丨從ChatGPT看GPU算力需求及國產化分析
其实早在2020年6月的时候，网上就曾传出过国产“28nm光刻机”即将在2020年年底交付的传闻，当时芯智讯根据某开发区发布的新闻稿当中也找到了相关的信息，称“到2020年产品将与整机单位共同完成28nm国产光刻机的集成工作”。 但是，到了2020年年底，上海微电子的28nm光刻机并未入传闻那样实现交付。 长久以来，阿斯麦垄断着全球最顶尖的光刻机市场，但这个垄断正在逐渐被瓦解。 据来自上海微电子装备（集团）股份有限公司（以下简称“上海微电子”）的官方信息显示，近日，上海微电子举行中国首台2.5D/3D先进封装光刻机发运仪式。
浸液系统技术长期以来一直被荷兰和日本垄断，光刻机主要以荷兰ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。 该项目研发成功后将推动国产光刻机一举超越Nikon和Canon的光刻机，成为全球光刻机生产企业第二名。 在193nm浸没式光刻机所需光源系统方面，主要由中科院光电研究院负责准分子激光光源系统研发，由北京科益虹源负责产业转化。 科益虹源也承担了“02重大专项浸没光刻光源研发”、“02重大专项核心零部件国产化能力建设”、“02重大专项集成电路晶圆缺陷检测光源”项目。
上海微電子光刻機: 中國「芯」時代之光刻機：國產光刻機風勁潮湧，任重而道遠原創
隨後不久，國際大廠英特爾及台積電紛紛選擇阿斯麥之後，尼康也就此失去挑戰摩爾定律的勇氣了。 而阿斯麥借勢而起，開發出全球首款EUV光刻機，全球光刻機寡頭地位就此形成。 圖為：EUV光刻機工作場景圖 圖源：網絡通俗點講，從目前技術工藝角度來看，誰能將波長控制得越短並實現效能最大化，誰的技術優勢愈發明顯。
可以说，全世界没有一家企业，甚至可以说没有一个国家可以独立完成高精密半导体前道光刻机的完整制造。 而在今年的6月，网上又再度传出上海微电子的“28nm光刻机”将在2021年年底交付的传闻。 可惜，截至到目前为止，仍未有确凿的消息显示，上海微电子的“28nm光刻机”能够在年底交付。 SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。 也就是说，在前道制造方面，我国与海外先进工艺还存在着很大差距。 从半导体芯片制造工艺流程来看，在晶圆制造环节使用的设备被称为前道工艺设备。
上海微電子光刻機: 中國自主研發28納米光刻機，突破技術封鎖，荷蘭光刻機製造商降價
倘若中國有自己的EUV光刻機就好了，中國晶片發展也就不會受制於人，畢竟在晶片三大工序裡面，設計、封裝我們都處於世界領先地位，只有製造被卡住了脖子，而且在短時間內無法突破。 據統計，2019年上半年，整個半導體銷售市場規模約為2000億美元，其中，65%晶片採用14奈米製程，25%左右採用10奈米和12奈米，僅10%左右的晶片採用7奈米。 顯示14奈米已成為當下應用最廣泛、最具市場價值的製程工藝，在AI晶片、高端處理器以及汽車等領域都具有很大的發展潛力。 大陸的中國電子資訊產業發展研究院電子資訊研究所所長溫曉君在接受《環球網》訪問時表示，大陸半導體行業研判，28奈米將是100%國產晶片的新起點，儘管面臨著技術方面的難題，但已看到希望。 即使先不談技術先進與否的問題，中國半導體設備產業規模都太小，研究機構伯恩斯坦（Bernstein）資料顯示，直到2021年為止，中國國產半導體設備最多只能滿足國內12%的需求，其餘都得依賴外國供應商。
值得一提的是，國内光刻機概念板塊中的成份股絕大數只是涉足光刻機零部件、其他種類的光刻機產業投資，並非具備制造芯片所需的光刻機的制造能力。 在芯片制造前道工藝之中，光刻、刻蝕、CVD工藝的步驟數量比例分别為1次、4次、2次。 因此，刻蝕和CVD的工藝用量提升最多，光刻則是單次工藝的成本最高。 阿斯麥爾如今和韓國在半導體領域加強合作，有韓國這樣強勁的合作伙伴，有韓國的助力，就算被我國拋棄了，估計也不會對阿斯麥爾自身的發展帶來太大的衝擊。 現在說到光刻機，可能大部分朋友想到的都是EUV光刻機，畢竟EUV光刻機是近年來的熱門話題，而且很多朋友之所以開始瞭解光刻機，也是因為先了解到EUV光刻機。
上海微電子光刻機: 使用 Facebook 留言
不過，這恐怕對於阿斯麥爾的影響不會很大，阿斯麥爾在光刻機領域的壟斷地位，可能仍舊還要存在很長一段時間。 阿斯麥爾CEO溫彼得親自訪問韓國，似乎有意和韓國加強在半導體方面的合作。 要知道，韓國在半導體領域的實力也是不弱的，特別是在晶片研發方面，早在2019年的時候，韓國三星就憑藉著5376件發明專利位居世界第一，除了三星之外，排名領先的韓國企業還有LG、SK海力士等等。 阿斯麥爾正在被我國拋棄，是否會直接影響到自己的根基呢？ 其實應該是不會的，2022年4月20日，阿斯麥爾公開表示，就目前而言，並沒有任何跡象表示晶片的需求會放緩，預計今年和明年的晶片產能仍將嚴重短缺。
會德豐地產常務董事黃光耀分析，近期多幅地皮流標，各項目涉及各自不同因素，例如赤柱用地需要平整山坡，港鐵小蠔灣項目要興建鐵路設施，發展年期更長達7年。 他總結，項目規模龐大、發展年期較長、建築成本及利息支出高企都影響發展商入標意欲。 黃光耀說，近期港元拆息已回落至約2厘的溫和水平，未見市場對加息特別憂慮。 他說，去年資金在高息環境下觀望，隨著不少停留在高息定存的資金陸續釋放，加上存息明顯回落，資金尋找出路下有機會重新流入樓市及股市，較樂觀的情況更可承接全年一手住宅供應量，相信今年新盤需求會回復正常。 會德豐旗下位於藍田的項目，新一期將於明日開價，首批單位涉及不少於80伙。 黃光耀說，會以貼市價推盤，認為最近市況向好，整體交投回升，對銷情有信心。
上海微電子光刻機: 上海微电子装备
目前，位於荷蘭的阿斯麥（ASML）公司壟斷著全球最頂尖的光刻機市場，該公司也因此被美國視為圍堵中國大陸晶片產業發展的「政治棋子」。 溫尼克（Peter Wennink）曾透露，阿斯麥尚未獲得向中國大陸出口最先進光刻機的許可，但一些生產成熟制程的光刻機出口並不受限制。 面對光刻機遲遲不能發貨，我們也隻剩下一條路可以走，那就是走技術自主研發的道路，面對歐美國傢的技術限制，導致瞭華為的麒麟芯片停產，中芯國際訂購的EUV光刻機，至今也沒有傳出任何出貨的消息，這也直接阻礙瞭國內先進制程工藝的發展。 還需要引進行業內的頂尖人才，著力發展國內一流的光刻機，打破國外的技術壟斷。 面對許多領域的商業壟斷，上海微電子將成為國際品牌的典範，讓更多的企業認識到，只有關心民族企業，獨立自主，自力更生，才能與對手對抗。 今年9月，上海微電子宣佈推出新一代大視場高分辨率先進封裝光刻機。
該報道又指，上海電氣已確定2021年旗下企業混合所有制改革及員工持股改革計劃，涉及的旗下公司包括「上海電氣上重碾磨特裝設備有限公司」、「上海電器陶瓷廠有限公司」及「上海電氣自動化設計研究所有限公司」。 上海微電子光刻機 在岸人民幣創逾5星期新低，收報6.8451兌1美元，較昨日收市價跌286點子，跌幅0.42%。 有交易員指，美國1月通脹率6.4%超出預期，加上之前公布的就業數據非常強勁，市場預期聯儲局緊縮周期可能延長，美元指數反覆上升，預料短期人民幣受壓。
上海微電子光刻機: 上海微電子正式交付中國首台光刻機
Peter Wennink在作上述表述同時還透露，阿斯麥尚未獲得向中國出口最先進光刻機的許可，但一些生產成熟製程的光刻機出口並不受限制。 上海微電子光刻機2023 溫曉君指出，中國14奈米晶片的發展攻克了許多技術、工藝與關鍵裝備的難題，而這些成果基本覆蓋了大陸積體電路全產業鏈體系，扭轉了之前工藝技術全套引進的被動局面。 14奈米甚至28奈米晶片國產化快速發展，意味著將採用退回策略，以成熟工藝滿足一般性的晶片需要，不再一味追求高製程，轉而更加重視設計、封裝優化，以時間來換取半導體應用和全產業鏈自主的空間。 雖然荷蘭還沒有做出最終決定，目前披露的資訊顯示，荷蘭考慮禁止向中國銷售能夠用於14納米及更先進製程的半導體設備，符合美國對邏輯晶片製造設備的限制，也代表ASML的浸潤式微影設備恐怕無法出口至中國。 阿斯麥生產的光刻機對於生產最先進晶片至關重要，該公司在該領域的技術優勢是目前世界上任何一家公司都無法比擬的，也是全球唯一一家能夠供應7納米及以下晶片所需的EUV（極紫外）光刻機的廠商。
上海微電子光刻機: 上海臨港新片區全年固投目標逾300億元
在這些上到新黑名單的公司中，有21家還受到進一步限制——外國直接產品規則（FDPR）——禁止外國公司向中國實體銷售採用美國技術或設備生產的商品，其中包括上海微電。 總體來看，ASML不忍捨棄國內市場是真，但不想看到我們實現高精尖光刻設備的自主化也不假。 但對於國產企業而言，即便ASML真的做到了EUV的自由出貨，國家也絕對不能放棄自主研發的腳步。 不能否認光刻設備技術的研發的確很難，畢竟該設備有約10萬個精密零件，有5000多家全球供應商，可真讓ASML給我們個圖紙試試？ 上海微電子光刻機 它之所以這麼說，主要是擔心國家實現光刻設備自主化後，衝擊到它的市場地位，想讓我們知難而退罷了。
上海微電子光刻機: 土耳其中企為中國救援隊提供後勤保障 中國製照明無人機點亮地震救援現場
也就是說，科益虹源的準分子鐳射器將會配套到上海微電子的光刻機中，而這臺計劃中的光刻機可以實現28奈米工藝。 上海微電子光刻機2023 它是一篇來自江蘇省開發區協會曾經發布的文章，標題為：科益虹源積體電路光刻光源製造及服務基地專案開工。 文章裡提到，到2020年產品將與整機單位共同完成28nm國產光刻機的整合工作。
而在众多的半导体设备当中，光刻机可谓是最为关键的设备。 但是，造光刻机并不是一件简单的事情，系统集成只是一方面，更为关键的是，其中需要用到非常多的关键器件，而这并不是一家或几家厂商就能搞定的。 在中美科技战、贸易战的背景之下，中国半导体产业被美国“卡住了脖子”，而这其中最为关键的一环就是半导体设备，华为就是因为台积电、中芯国际等晶圆代工厂被美国禁止利用基于美国技术的半导体设备为华为代工，直接导致了华为自研芯片的断供。 目前上海微电子的光刻机已可以应用于集成电路产业链中晶圆制造、封装测试，以及平板显示、高亮度 LED 等领域。 资料显示，上海微电子直接持有各类专利及专利申请超过2400项。 当然，这个消息是否真的属实，目前并没有官方的回应，即便该传闻属实，这个锅可能也并不能完全让上海微电子来背。
有消息显示，此前国产40W 4kHz ArF光源已经交付，不过“28nm光刻机”所需的60W 6kHz ArF光源似乎仍在研发攻关当中。 从目前来看，如果上海微电子的“28nm光刻机”确实遭遇了难题，那么除了上海微电子自身的系统集成问题之外，浸润单元或者关键子系统可能也没完全准备好。 相比之下，中国虽然也有自己的国产光刻机厂商——上海微电子装备股份有限公司（SMEE），但是由于起步晚，再加上国外的技术封锁，使得其在技术上与国外存在着较大差距。 在目前的光刻机市场，ASML、佳能以及尼康是最大的三家供应商，占据了全球99%的市场。
上海微電子光刻機: 相關
於有關情形下，讀者及用戶應尋求專業意見(如涉及醫療、法律或投資等問題)。 由於本討論區受到「即時上載留言」運作方式所規限，故不能完全監察所有留言，若讀者及用戶發現有留言出現問題，請聯絡我們。 香港討論區有權刪除任何留言及拒絕任何人士上載留言 (刪除前或不會作事先警告及通知 )， 同時亦有不刪除留言的權利，如有任何爭議，管理員擁有最終的詮釋權 。 用戶切勿撰寫粗言穢語、誹謗、渲染色情暴力或人身攻擊的言論，敬請自律。 違反上述規定者，中時新聞網有權刪除留言，或者直接封鎖帳號！
上海微電子光刻機: 缺先進光刻機 中共無法製造先進芯片
國產光刻機的交付，意味著國產光刻機開始加速替代進口光刻機，這對於ASML來說將是巨大的壓力，因為中國是全球最大的市場，2022年Q1和2021年中國就為ASML貢獻了三分之一的收入，可見中國市場規模之大。 近日上海崑山的同興達科技有兩台國產光刻機入駐生產線，由上海微電子自主研發，這代表著國產光刻機的重大進步，突顯出國產光刻機已迅速替代進口光刻機。 不管怎樣，在上海微電子被美國列入「實體清單」後，能夠傳來這樣的好消息也是令人振奮的。 何況還有消息稱，上海微電子的28nm光刻機已經在研製中，並且通過了多項測試，或許不用多久我們就有自己的DUV光刻機了。 有點遺憾的是，本次搬入崑山同興達的並非我們通常議論的前道製造光刻機，而是後道封測光刻機，這種光刻機精度要求遠低於前道光刻機，所以相對來說容易突破一些，如今上海微電子封測光刻機技術已經非常領先了。 上海微電子光刻機 要知道，一台EUV光刻機裡面，包含了50萬個精密部件，每一個部件的供應商都是業界龍頭企業，可以說EUV光刻機是集合了全世界先進技術的設備，任何一個國家都無法單獨地將它製造出來。
「卡脖子」即頸被捏住，現在用來比喻內地研發進度未夠，因此須依賴進口的技術；而所謂光刻機則乃把晶片設計圖縮影在晶圓上的關鍵設備，現時由荷蘭公司ASML獨領風騷。 誠然，上海電氣的產品範圍非常廣泛，涵蓋不同煤炭、燃氣、風力等能源的發電設備，並與日本工業自動化設備發那科合作工業機械人，但與半導體似乎距離較遠。 【大紀元2022年12月16日訊】（大紀元記者夏雨綜合報導）週四（12月15日），美國商務部將36家中共科技企業和實體列入貿易黑名單「實體清單」，其中包括上海微電子裝備集團有限公司（簡稱上海微電）。
所以目前無論是 Nikon 還是佳能都無法對 ASML 構成威脅。 ASML 的光源來自於美國Cymer，光學模組來自德國蔡司，計量設備來自美國，但屬於德國科技，它的傳送帶則來自荷蘭VDL集團。 上海微電子光刻機 一台光刻機90%零件都是透過全球採購，當中涉及到4個國家十多家公司，而下遊客戶的利益也與 ASML 牢牢捆綁。 因為目前的晶片都還是矽基晶片，歷經大半個世紀的發展，從最初的電子管到電晶體，再到內建電路的發明，電晶體的關鍵尺寸一步一步縮小，而在奈米等級的尺度進行電路雕刻，目前我們所掌握的技術只有曝光。 1955年，貝爾實驗室的朱爾斯‧安德魯斯和沃爾特‧邦德開始把製造印刷電路板的曝光技術應用到矽片上。
